产品中心

助力中国高端制造业

快速发展

常压等离子处理设备
SZP-RD50 常压(大气)在线等离子设备

1. 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持;

2. 适用于高校实验室、半导体IC领域,体积较小的产品的表面清洁与活化。

技术参数
编号 项目 技术参数
1 整机规格 1300(W)*1300(D)*2200(H)mm+ 50/ - 30mm(包含FFU及报警指示灯等)
2 进出料方式 流水线全自动进出料
3 放电结构 真空容式辉光放电
4 处理温度 ≤50°C
5 单次处理载板数 2片
6 载板最大尺寸 (170-270)*(65-85)* (1-5)mm
7 设备产能 理论值≥90载板/小时(依据Plasma处理时间15秒计算)
8 净化防护 百级FFU净化过滤系统
特点

1. 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持;

2. 适用于高校实验室、半导体IC领域,体积较小的产品的表面清洁与活化。

行业 适用于摄像头手机制造、半导体IC领域硅胶、塑胶、聚合体领域汽车电子航空工业等。
应用 1. 摄像头、指纹识别行业:软硬结合板的金PAD表面去氧化;IR表面清洗、清洁;
2. 半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;
3. 硅胶、塑胶、聚合体领域:硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。
主要特性
高精度,快响应
良好的操控性和兼容性
完善的功能和专业的技术支持
适用于高校实验室、半导体IC领域,体积较小的产品的表面清洁与活化
资料下载
  • 类型/标题
  • 类型/标题
  • 类型/标题
  • 类型/标题
  • 类型/标题
  • 类型/标题
  • 类型/标题
加入我们
加入舜展,共创未来!

查看更多