助力中国高端制造业
快速发展
1. 高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持；
2. 适用于高校实验室、半导体lC领域，体积较小的产品的表面清洁与活化。
| 编号 | 项目 | 技术参数 |
| 1 | 处理宽幅 | RTR1000L-W600A: 100mm ~600mm(可定制) |
| 2 | 真空室规格 | RTR1000L-W600A：1200L(可定制) |
| 3 | 控制系统 | 触摸屏+PLC控制 |
| 4 | 真空测定系统 | 皮拉尼电阻式真空计 |
| 5 | 气体计量系统 | 精确质量流量控制计MFC |
| 6 | 气体路数 | 标配2路工作气体，可扩展至5路工作气体 |
| 7 | 等离子发生器 | 10KW等离子体发生源，40KHz(可选13.56MHz) |
| 8 | 工作气体 | 2-5路工作气体可选：Ar、N2、H2、O2、CF4 |
| 特点 | 1. 高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持； 2. 适用于高校实验室、半导体lC领域，体积较小的产品的表面清洁与活化。 | |
| 行业 | 适用于摄像头、手机制造、半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域、汽车电子、航空工业等。 | |
| 应用 | 1. 摄像头、指纹识别行业：软硬结合板的金PAD表面去氧化；IR表面清洗、清洁； 2. 半导体lC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗； 3. 硅胶、塑胶、聚合体领域；硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。 | |
查看更多
