常压(大气)宽幅等离子设备M款：100~3270mm(处理宽幅)

宽幅式等离子处理设备

1. 更优良的处理效果：放电面值增加至50mm，对比一般常压等离子清洗机可提升3~5倍的清洗效果；

2. 更快速的处理速度：最高可达8M/min；

3. 更低的过程处理温度：过程温度最低≤40°C，有效保护产品，不产生热损伤；

4. 更稳定的过程控制：等离子放电更稳定，不产生电弧，不产生电损伤；

5. 更低廉的使用成本：使用氮气(N₂)和压缩空气(CDA)作为工艺气体，制氮机可供应，维护费用低；

6. 更少的微尘产生：独特的电极结构和处理方式，微尘(Particle)产生最小化。

询价

技术参数

类型	宽幅等离子体清洗设备Plasma Cleaning
型号	A款/M款/D款:100~3270mm(处理宽幅)
构成	等离子电源、UT气体控制单元、等离子电极单元
规格/性能	工艺气体	处理间距	处理温度	水滴角
	N₂+CDA	3~12mm	≤50°C	≤10°(100mm/s)
特点	1. 更优良的处理效果：放电面值增加至50mm，对比一般常压等离子清洗机可提升3~5倍的清洗效果； 2. 更快速的处理速度：最高可达8M/min； 3. 更低的过程处理温度：过程温度最低≤40°C，有效保护产品，不产生热损伤； 4. 更稳定的过程控制：等离子放电更稳定，不产生电弧，不产生电损伤； 5. 更低廉的使用成本：使用氮气(N₂)和压缩空气(CDA)作为工艺气体，制氮机可供应，维护费用低； 6. 更少的微尘产生：独特的电极结构和处理方式，微尘(Particle)产生最小化。
行业	应用于手机制造、摄像头、指纹模组、半导体制造、包装、印刷、涂覆、高分子材料等。
应用	1. LCD(2G~11.5G),OLED生产制程中广泛使用； 2. TP(触摸屏)生产制程中广泛使用； 3. AF镀膜(防指纹)，AS镀膜(防刮)，AG镀膜(防炫)，AR镀膜(增透)前处理； 4. 显示屏全贴合前处理、显示屏ACF压合前处理； 5. 金属薄膜(Cu、Al等)、非金属薄膜(PET、Pl等)卷材涂覆、粘接前表面处理。