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真空等离子处理设备
SZP-1000、SZP-2000 大型真空等离子设备
高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持;高性能等离子发生器,激发更为稳定之等离子体;特殊电极结构,更适合宽幅双面材料进行等离子体表面处理;采用中通水冷电极,真正实现过程温度控制,均衡均一;具备上下料车,取代人工上下材料,上下料更加方便;变频节能,通过真空计自动调节变频器频率,自动调节真空泵转速维持真空度。
技术参数
编号 项目 技术参数
1 机台整机规格 PM13A: 1900(W)×1300(D)×1900(H)mm
PM17A: 2000(W)×1500(D)×1960(H)mm
2 真空室规格 PM13A: 900(W)×870(D)×830(H) mm
PM17A: 1030(W)×1100 (D)×1100(H)mm
3 电路板规格 PM13A:13层平板电极(870(W)×610(D)mm)
PM17A:17层平板电极(944(W)×790(D)mm)
4 控制系统 触摸屏+PLC控制
5 真空测定系统 0-10 Torr美国MKS电容式薄膜规真空计
6 气体计量系统 精确质量流量控制计MFC
7 气体路数 5路进气,1路放空
8 等离子发生器 10KW等离子体发生源,40KHz(可选13.56MHz)
9 工作气体 2-5路工作气体可选:Ar、N、H、O
特点

1. 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持;

2. 高性能等离子发生器,激发更为稳定之等离子体;

3. 特殊电极结构,更适合宽幅双面材料进行等离子体表面处理;

4. 采用中通水冷电极,真正实现过程温度控制,均衡均一;

5. 具备上下料车,取代人工上下材料,上下料更加方便;

6. 变频节能,通过真空计自动调节变频器频率,自动调节真空泵转速维持真空度。

行业 适用于摄像头、手机制造、半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域、汽车电子、航空工业等。
应用 1. 摄像头、指纹识别行业:软硬结合板的金PAD表面去氧化;IR表面清洗、清洁;
2. 半导体lC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;
3. 硅胶、塑胶、聚合体领域、硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。
主要特性
高频低能量处理
温度可控
均匀性高
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